据reed-electronics网站报道，日本JEOL Ltd.近期表示，将提升其电子束光刻设备制造系统的产能，电子束光刻设备主要应用于半导体电路和其他器件制作过程中的图形化工艺。

该公司将投资18亿日元(约1600万美元)用于建立其位于东京的净化室，以将其产能提高到每年30套装置，达到现在生产水平的两倍。JEOL将于7月动工兴建厂房，以实现新厂可以于2007年5月投产。

电子束光刻设备的组装是一项高精度的工艺，需要在净化室内完成。JEOL公司表示，部分器件生产商的扩大投资引起了半导体设备需求的增长。随着产能的提高，该公司将进一步提高电子束光刻掩膜板制造设备的产能。

相关链接（英文）：
http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN392055187.html