XTRAK-IFP系统是一个无离子的能够应用于多种的半导体器件清洗的等离子处理工艺，比如更小体积的先进的存储器件、用更小引线互连的寄存器芯片和其他预编程器件。该系统有一个能够容纳更大的零件或支撑多种零件的加工支架的等离子放大腔。它能够每小时加工180个圆片或加工支架。这个工具的智能校准管理系统提供的闭环控制调节时间小于1分钟。多种等离子体模式允许没有限制的任何工艺气体的选择。其三轴对称腔保证了整个表面受到均匀的等离子体处理。
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