深紫外光光源供应商Cymer公司日前推出一种准分子光源XLA 200，该产品适用于45nm制造工艺节点的沉浸光刻技术。 　　

　　XLA 200是首个该类光源，采用了带氟化氩(ArF)光源的主振荡器功率放大器。该光源允许使用多种ArF沉浸扫描器以满足半导体工业中沉浸光刻的需求。这种光源工作重复频率为4kHz，输出功率达60W。XLA 200能使半导体的曝光具有更大的数值孔径，同时还提供了板载的E95带宽基准。 　　

　　XLA 200是继Cymer推出XLA 105四个月之后以及业界首个基于MOPA的光源XLA 100两年之后的产品，首款XLA 200计划于2005年第一季度面市。