RAIDER-M只有两个或四个反应器，是全尺寸Raider（14个反应器）的微缩版。它可以快速处理晶圆，为条件评估和研究开发提供非常经济的平台。RAIDER-M是适用于研究开发或生产的全自动设备，可用于电镀和晶片清洗。与Semitool的CFD电镀反应器和化学清洗槽相结合，RAIDER-M可用于铜电化学沉积的研发。RAIDER-M还可用于小批量表面处理，包括32 nm先进工艺的前段清洗。因此RAIDER-M是进行质量认证和加快革新的理想设备。
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