LMS IPRO3掩膜板量测设备专为65纳米及其以上技术节点而设计,与上一代LMS IPRO2相比，LMS IPRO3在测量精度上有了明显改善，短期可靠性好于1.5 nm (3s)。和上几代产品一样，LMS IPRO3将满足最一流的半导体掩膜板制造商及其客户提出的要求。
　　LMS IPRO3的设计将最大生产能力和最少的程序测试时间和最简洁的操作界面。可以容易地在线或者离线准备和获得所有测量工作。此外另一个特点是他独特的数据评估软件包DEVA，它保留了Leica Microsystem ; LMS IPRO 量测解决方案主要的部分。它能将收集到的数据自动进行统计分析，使用户能定义数据评估的宏。通过网络，操作人员和工程师能够远程操作系统和对结果进行评估。
　　Leica Microsystems,
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