美国模拟器件(ADI)公司近期发布了新的iPOLAR沟道隔离制造工艺并且推出 一批取得重大突破的放大器。该创新工艺采用一种深沟道技术，显著地提高了晶体管的密度和性能。而采用这一创新工艺的、工作电压高达±18 V的放大器产品，比传统的双极型放大器显著提高了性能，同时封装尺寸减小75％，功耗降低了50%。非常适合于工业和仪器仪表等应用。www.analog.com