导航: ; ; ; ; ; Ultipleat ME过滤器专为协助芯片制造商提高半导体刻蚀量产工艺的性能、流片量和成品率而设计。为氢氟酸深亚微米过滤和缓冲氧化物腐蚀槽循环工艺提供较高流速。可过滤50nm以上杂质。过滤器的滤除率达99.9%以上。
Pall Corp. www.pall.com
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; ; ; ; ; Ultipleat ME过滤器专为协助芯片制造商提高半导体刻蚀量产工艺的性能、流片量和成品率而设计。为氢氟酸深亚微米过滤和缓冲氧化物腐蚀槽循环工艺提供较高流速。可过滤50nm以上杂质。过滤器的滤除率达99.9%以上。
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