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测量系统

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  Innova-D是一种有高质量的共焦光学装置的深度和CD自动测量系统,可测量半导体器件的台阶高度和线宽。深度测量的再现性是0.03 mm,线宽的再现性为0.006mm。它具有精确X-Y工作台定位、耐用的花岗岩基座和振动隔离平台提供的激光干涉测量。基于视觉的自动聚焦装置为用户提供精确到纳米级必需的可重复聚焦。
  Micro-Metric Inc.
  www.micro-metric.com


  
  

来源:半导体国际   作者:  2005/8/11 0:00:00
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