据Reed-electronics报道，半导体设备供应商亚微纳技术公司（Aviza Technology, Inc.）日前宣布向飞思卡尔半导体（Freescale）出售其Sigma fxP金属淀积系统。该系统将被用于在飞思卡尔正在开发的新一代器件中淀积薄层的合金铝材料。

“亚微纳为能够持续满足飞思卡尔的制造需要和完善其已有的物理气相淀积（PVD）以及刻蚀系统而感到高兴。”亚微纳PVD/CVD/Etch业务副总裁兼总经理Kevin T. Crofton说，“这次的订单证明了我们在满足客户在世界各地的各种制造需求方面的能力。”

而飞思卡尔功率技术开发主管Alain Deram表示，在飞思卡尔寻找客户的过程中，着重看重其性能和可靠性，以满足飞思卡尔特殊的高电流功率器件产品。并希望找到能够提供较低成本以及已经证实的技术支持能力的供应商，以及他们提供的产品在开发新的工艺和材料的时候具有一定的灵活性。Deram认为亚微纳无疑满足以上所有的需求。

亚微纳是半导体、化合物半导体以及纳米技术领域提供先进制程设备的供应商。其业务涉及前段和后段几乎所有工艺。如原子曾淀积系统ALD，扩散炉，LPCVD，APCVD，PVD以及各种刻蚀设备等。

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http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN379575450.html