XLA100是第一代基于双谐振腔功率放大设计平台的氟化氩(ArF)光源。这种准分子激光器为高数值孔径的扫描式曝光设备提供193 nm波长光源，它在狭窄波段的高能输出确保了光刻工艺在65 nm技术节点的良好表现，并且允许向下延伸实现45 nm的图形尺寸。在全部的3个DUV曝光波段，使用Cymer的新一代准分子激光器，不仅提高了晶圆的产量，而且也降低了光源的花费。
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