P-Nylon PhotoKleen EZD-3过滤器用于对光刻胶，底部抗反射涂层以及其它光刻化学试剂进行过滤和提纯。使用聚乙烯尼龙薄膜材料对193nm光刻胶进行过滤、提纯，能够减少微气泡缺陷，也可以去处无效不溶于有机溶剂的高分子聚合物。0.02mm孔径版本的过滤器已经证实能够削减由于底部抗反射涂层不纯而带来的锥形缺陷，产品具备降低尺寸大于20 nm的杂质在刻蚀后形成缺陷的能力。
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