VisionPad™ VP3100研磨垫，采用独有的聚氨脂配方，它表面比传统硬研磨垫更软，可以减少缺陷，又能具有必要的坚硬度，在对铜阻档层进行化学机械研磨时，实现良好的平坦度。它使用一系列新型化学聚合物，可以把晶圆表面的刮痕、振动的痕迹减少到最少，从而大幅度地提高晶粒的成品率。适合各种研磨台使用，可以减少设备的停机时间与晶圆的损坏，同时提高研磨制程的产量。VisionPad™ VP3100用于65纳米工艺，也可以用于现有的130纳米和90纳米工艺。