Varian推出新一代大电流离子注入设备VIISta HCP

据The Semiconductor Reporter网站报道，Varian半导体设备联合公司在Semicon West商推出了满足65nm节点生产需要的大电流离子注入设备VIISta HCP。

VIISta HCPVIISta HCP是Varian公司大电流离子注入设备的第五代产品,同样基于公司专利技术双磁带状光束版图系统开发而成，新设备主要应用与65nm工艺的量产及45nm工艺的开发，可以大大提高产量，降低颗粒污染，具有优越的可靠性并可以降低生产成本。。

Varian在离子注入设备市场中居于全球领先地位，另外公司已有240多套大电流注入设备发货至各地半导体中，公司在此领域的地位也是不容小觑的。