Aprio与Ponte联合建立光刻-良率分析工具

据Semiconductor Reporter网站报道，Aprio Technologies Inc.与Ponte Solutions Inc.近期联合表示，计划建立一个包含Aprio可制造设计(DFM)工具和Ponte良率分析工具的交互界面。

包含有Aprio的Halo-Quest、DFM View工具和Ponte的Yield Analyzer的交互界面可以为其共有客户在设计流程初期提供包含有光刻影响的成品率分析平台，两家公司表示，这项工具将为制造设计提供光刻设计纠正优化，在现有良率的基础上使其进一步得到提高。

通过Ponte与Aprio的联合解决方案，SoC设计者将可以提高其设计良率，而不需要学习复杂的光刻制程步骤。该解决方案将执行Silicon Integration Initiative Inc.发起的EDA工具综合互用标准OpenAccess。