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国产100nm光刻机2006年 完成样机调试

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在近日由浙江省半导体行业协会主办的“长三角半导体行业协会联谊会”上获悉,上海微电子装备公司100nm光刻机今年底将开始整机组装、2006年完成样机调试。
  位于上海张江高科技园区内的上海微电子装备有限公司,是由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的半导体设备制造公司,汇集了来自全国及海外的光、机、电、气、化学、材料等多学科高级技术人才,专门从事光刻机等微电子装备的总体设计、系统集成的技术研究,为光刻机及其它相关设备的开发、设计、制造及维修、成套服务等提供系统解决方案。
  据了解,在上海微电子装备有限公司开发的系列产品中,基于0.18 um工艺技术的8英寸设备成套解决方案,最有可能率先实现商用化。(姚钢)

来源:半导体国际   作者:  2005/11/18 0:00:00
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