据EE Times网站报道,Heidelberg设备公司声称已向Erlangen-Nuremberg大学的光学、信息与光子研究所出售了一台DWL400无掩模光刻系统。

该公司并未透露这台设备的售价。据称这台设备可以直接写入0.6微米的线条，其工作面积达400毫米×400毫米。

“在很多研究项目中，设备的性能与灵活性是科研成功的关键，”Heidelberg市场与销售副总裁Alexander Forozan说。“这一点已经在Erlangen-Nuremberg的光学研究所内得到了验证。DWL400系统具有128阶灰阶曝光功能，厚胶光刻功能，以及层与层之间对准功能。”

相关链接（英文）：
http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=187202909