据EE Times网站报道，日本Ebara公司6月5日宣称将以合作者的身份与奥尔巴尼（Albany）大学的纳米科技与工程学院（CNSE）联合研发纳米电子技术，这将是Albany纳米科技联合体项目的一部分。

此项目将以CNSE将作为半导体研发中心，投资500万美元，历时三年，主要对于设计开发先进的化学机械抛光（CMP）工艺以及300mm铜互连线的电解电镀工艺

这次合作的目标是提高工艺及硬件水平，来增强32nm节点的制造工艺水平。

Ebara公司的五名技术人员将会派往CNSE的Albany纳米科技联合体合作中心进行开发工作，另外公司还将在合作中心安装CMP设备与电子化学沉积设备各一台。

相关链接（英文）：http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=188701551