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Bede X-ray Metrology宣布加入IMEC合作,研究利用X光控制制程

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       Bede X-ray Metrology近期宣布,公司已经加入了与研究机构IMEC的合作协议,将合作研究应用X-ray实现45nm工艺及以下的新型半导体材料制程控制中的计量。

       一套Bede的X-ray计量系统将安装于IMEC 300mm的研发工厂,用于新型半导体材料的表征。该系统在一个平台上集成了高分辨率X-ray衍射(HRXRD)、X-ray衍射(XRD)和X-ray反射(XRR)技术,应用于制程的前端和后端工艺控制,包括应力硅、高k栅介质、金属栅、互连和低k隔层介质(ILD)等。

       "我们很高兴IMEC选择了BedeMetrix-L,我们正在与全球领先的研发中心合作,Bede销售与市场主管Frank Hochstenbach表示,这将使我们在最先进的制程技术和先进材料方面受益。同时,我们也将为IMEC伙伴在制程控制方面提供多种解决方案

。"该公司宣称.

来源:半导体国际   作者:  2006/8/30 0:00:00
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