访问电脑版页面

导航:老古开发网手机版其他

光刻胶剥离液/残留物去除液

导读:
关键字:
BAKER提供的ALEG-380能够有效地去除大块光刻胶、干法去胶/刻蚀后的严重交联残留物以及侧壁高分子聚合物,进而帮助半导体厂家提高产品合格率和降低生产成本。该化学试剂可以为带有复杂金属结构的器件提供抗电流侵蚀的保护。产品的清洗时间和工作温度的选择范围较大,在5-20分钟内均可满足需求。一般而言,产品的在水槽中的使用寿命>24小时。
Mallinckrodt Baker Inc.www.jtbaker.com

来源:半导体国际   作者:  2006/9/9 0:00:00
栏目: [ ]

相关阅读

安森美推出新的高功率图腾柱PFC控制器,满足具挑战的能效标准

动态功耗低至60μA/MHz!助力设备超长续航,首选国民技术低功耗MCU!