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CMOS新工艺提供半导体标准设计平台

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上海华虹NEC电子有限公司与芯原微电子(上海)有限公司正式签订合作协议,后者将为华
虹NEC新近开发完成的0.25微米CMOS工艺提供标准设汁平台。为更好满足客户的需求,最近,华虹NEC完成了对公司原有的NEC 0.25微米工艺制程—UC2的改造,开发完成丁面积更紧渎,时序性能更优越,更具有竞争力,和其他晶圆代工厂相容的0.25微米新CMOS工艺—CL250G。
    
根据协议,芯原的设计平台包括标准单元库(Standard CellLibrary),输入和输出单元库(I/O Cell Library)和存储器编译器包括有单口和双口静态随机存储器(Single  Port  and  Dual  PortSRAM Compiler),寄存器(OnePort and Two Port ReXister File)和扩散可编程只读存储器(Diffusion ROM Compiler)。

本文摘自《半导体技术》
来源:中电网   作者:  2003/7/29 0:00:00
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