访问电脑版页面

导航:老古开发网手机版其他

三星新开发出70nm DDR2 SDRam芯片

导读:
关键字:

  韩国电子巨头三星电子公司日前宣称,他们开发研制出了全球第一款使用70nm工艺生产的512Mb DDR2

  SDRam存储芯片,这也是目前存储芯片制造领域内的最精细的微处理技术。

  三星电子称,采用70nm工艺生产的512Mb DDR2 SDRam存储芯片,是当前80nm 和 90nm处理工艺的延续。但目前采用70nm处理工艺的每个晶圆上的芯片数量至少要比采用90nm工艺所包含的芯片数量多出一倍。新的生产工艺采用了三星的金属绝缘层金属(Metal-Insulator-Metal,MIM)技术以及被称为“三维晶体管技术——凹道排列晶体管(recess channel array transistor,RCAT)”3D构架技术。

  这些技术的采用确保了70nm 512Mb DRam芯片克服了DRam体积大的缺点以及提高了数据的更新恢复功能,70nm 工艺技术是继三星2002年首次推出sub-micron处理技术和2003年推出80nm处理工艺后,再次在存储技术上取得的新突破。

  三星公司称,预计在2006年的下半年,推出采用70nm 工艺生产的容量分别为512Mb、1Gb和2Gb的存储产品。

  市场调研机构 Gartner Dataquest之前发表的一份调查报告中称,今年全球DRam芯片市场的收入在262亿美元左右,而到2008年,全球DRam芯片市场的收入将291亿美元。工艺生产的512Mb DDR2 SDRam存储芯片,是当前80nm 和 90nm处理工艺的延续。但目前采用70nm处理工艺的每个晶圆上的芯片数量至少要比采用90nm工艺所包含的芯片数量多出一倍。

  新的生产工艺采用了三星的金属绝缘层金属(Metal-Insulator-Metal,MIM)技术以及被称为“三维晶体管技术——凹道排列晶体管(recess channel array transistor,RCAT)”3D构架技术。

  这些技术的采用确保了70nm 512Mb DRam芯片克服了DRam体积大的缺点以及提高了数据的更新恢复功能,70nm 工艺技术是继三星2002年首次推出sub-micron处理技术和2003年推出80nm处理工艺后,再次在存储技术上取得的新突破。

  三星公司称,预计在2006年的下半年,推出采用70nm 工艺生产的容量分别为512Mb、1Gb和2Gb的存储产品。市场调研机构 Gartner Dataquest之前发表的一份调查报告中称,今年全球DRam芯片市场的收入在262亿美元左右,而到2008年,全球DRam芯片市场的收入将291亿美元。

来源:电子产品世界   作者:  2005/10/18 7:31:00
栏目: [ ]

相关阅读

安森美推出新的高功率图腾柱PFC控制器,满足具挑战的能效标准

动态功耗低至60μA/MHz!助力设备超长续航,首选国民技术低功耗MCU!