罗门哈斯电子材料公司针对90 nm低k应用推出优化的阻挡层研磨液

日前，罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部推出了新系列的最优化非酸性阻挡层研磨液，用于90nm低k半导体装置的化学机械研磨。LK系列是CUS1351研磨液之后的下一代产品，包含LK301及LK309两种阻挡层研磨液，可以用于范围广泛的整合方案，避免出现缺陷的效果很好，而且很灵活。这种研磨液目前正在进行鉴定，并且在许多家客户的工厂中进行试验，其中包括逻辑器件制造商的工厂。

LK系列阻挡层研磨液是在罗门哈斯电子材料公司位于美国特拉华州纽渥克市的研磨液制造厂生产。目前，这座在技术上先进的工厂每年可以提供三百多万加仑研磨液。

本文摘自《半导体技术》