光刻是决定集成电路制造水平的关键工艺之一,而总部位于荷兰的ASML公司一直致力于将最新的技术成果引入中国市场,包括其可用于45nm技术的TWINSCAN和5000型光刻系统,在中国Foundry的技术加工水平逐渐与世界接轨的今天，其设备对于提升中国公司技术水平有重要意义。与此同时，由于中国部分IC制造公司的资金实力有限，为了满足这批客户的要求，ASML自1993年即开展了二手设备的翻新业务，从高端到低端为中国客户提供周到服务。
　　ASML中国销售总经理陈焕群介绍，有些客户喜欢ASML本公司翻新的设备是因为ASML在旧设备翻新时不仅将所有的模块清洗、测试，并且可以用该系统升级模块进行替换，因此系统的性能可以得到有效提升，达到该系统平台几年后的水平。至今，ASML在中国已销售了33台翻新二手设备，占其总数的43％。而由ASML售出的翻新设备同样享受半年到1年的保修服务及其他各项服务，包括故障2小时响应等。
　　ASML光刻系统主要有三个平台，支持0.9um到0.5um的2500平台,支持0.45um到0.09um的5000型平台和全球唯一的对准和曝光分立双平台光刻系统TWINSCAN。面对业界对157nm光刻工具的技术争议，ASML除可以提供157nm光刻系统样机外，也根据客户的要求设计了镜头浸入式193nm光刻系统，以实现45nm技术。陈焕群直言157nm和浸入式193nm技术各有利弊，157nm工具有光刻胶配套等问题，浸入式193nm工具由于扩大了NA（数值孔径），必然会导致镜头的扩大而提高成本。目前Intel和TI、IBM、Infineon等公司对此有不同的态度，希望中国客户综合考虑各项技术指标，在进行45nm技术开发时，作出自己的选择。
　　参与集成电路制造商的初始设计，在建厂起始阶段即根据客户资金量和技术要求设计选择设备也是ASML争取市场的一样法宝。而分布在上海、天津、苏州等地的50多名销售和支持工程师队伍也保证了ASML对中国集成电路制造商的充分支持。
　　深入高校，提高未来工程师对ASML产品的认识也是ASML战略性举措之一。目前， ASML支持在清华设立的Delft联合培训中心，并在清华微电子所设立了联合应用研究项目（JARP），支持MEMS的开发。
　　ASML公司自1988年进入中国后，一直用心解读着中国市场，为中国客户提供灵活得体的技术、设备和服务。随着中芯环球等新Foundry项目的推进，ASML将更多的参与到蓬勃发展的中国半导体制造产业中。（彭 晔）