由复旦大学国家微分析中心和日本滨松光子学株式会社联合举办的第四届 “IC的先进光子学失效分析技术APFA05国际研讨会”于2005年11月29日在上海复旦大学成功举行。此次研讨会得到了微电子业界的热烈响应，来自上海及长三角地区的近40家IC设计和制造单位的80余名代表参加了次会议。此次会研讨会上共宣读了8篇论文，其中既有国内外资深专家对与IC设计、制造密切相关的先进失效分析技术的最新动态介绍和前瞻性论述，也有富有实际经验技术专家对先进失效分析技术的应用报告。每年一次的APFA 国际研讨会已成为我国微电子业界在微电子可靠性及失效分析技术领域一个良好的信息交流平台。

大会执行主席复旦大学的王家楫教授指出：复旦大学国家微分析中心和日本滨松光子学株式会社于2001年8月建立的光发射EM联合实验室，旨在探索IC中各种红外显微发光现象背后的机理，从理论和应用两方面对IC的光子学失效分析技术进行深入的研究。复旦大学作为一个国内外著名的综合性大学，将努力在微电子技术的研究、应用和人才培养方面，以及在促进国内外微电子技术同行间的交流方面，做出更大的贡献。（金）