XLA400是第五代基于主控振荡功率放大器的光刻光源，是为65纳米技术而夺身打造的. 在6 kHz的工作脉冲频率下,输出功率是90 W，并且可以进一步的增大, 设备兼容各种类型的光照条件, 并满足用户对线宽控制的严格要求。利用可变输出功率的优势,设备使芯片制造商在不降低产量的情况下将ArF光刻技术向下延伸到45纳米技术节点, 同时减少了对某些为提高产能而使用的分辨率加强技术的依赖.灵活的设计使XLA400也支持实现45纳米技术节点的超高数值孔径浸没式光刻设备
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